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半导体清洗设备
半导体清洗设备核心臭氧放电装置
别名/ alias

清洁臭氧发生器、臭氧超纯水发生器、高浓度臭氧发生器、臭氧水高效清洗设备;卓康牌臭氧发生器采用平板式放电模组,通过微间隙放电将氧气转化为臭氧。放电单元由高纯度陶瓷组成,放电过程中无金属离子析出。臭氧浓度超过320g / ?(N),在市场上处于较高水平。它已被许多客户在半导体,FDP和其他电子器件材料制造工艺的干法和湿法工艺中高度重视。

全系列型号/ Full range models

我司核心放电装置可按照客户要求进行多种组合,实现不同的臭氧气体浓度。





臭氧清洗浓度要求/ Ozone cleaning concentration requirements

臭氧清洗可应用于多种行业,不同行业有不同的浓度需求,在光伏行业主要有如下应用:

目前主要应用于制绒工序中替代双氧水、制绒后清洗、镀膜前清洗、替代RCA 清洗、BOE 清洗、黑硅表面清洗、高质量氧化膜生长等;


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